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水处理净化系列THE LAMP AND BALLAST
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超纯水处理成套设备-电子光伏行业水处理设备

半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。 

 

 

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产品描述 THE PRODUCT DESCRIPTION

   半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。


工艺流程说明
全自动制备超纯水的工艺大致分成以下3种:
1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
   电子行业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备.在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下,采用世界上最先进的反渗透膜元件.压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水.控制系统选用PLC或计算机DCS程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印 广泛适用于: 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂 光导纤维、光盘。


超纯水系统工艺配置说明
1、原水泵:供预处理系统正常工作的动力源,为保持后序设备的正常运行,增加压力。泵相应设置高过热保护器、压力控制器,出现故障自动报警。
2、原水箱:设高、低水位控制。对系统的给水起调节作用,防止自来水给水不足的影响,同时也可对自来水中的杂质起一定的沉淀作用。
3、全自动过滤器:采用石英砂滤料以除去原水中较大颗粒的悬浮物、泥沙、杂质及铁离子等,降低水的混浊度。
4、全自动活性炭过滤器:利用活性碳的吸附能力有效地吸附原水中的有机物、游离性余氯、胶体、微粒、微生物、某些金属离子及脱色等,使出水余氯含量<0.1mg/L,所以被广泛用于生活用水及食品工业、化工、电力等工业用水的净化、脱氯、除油和去臭等。
5、全自动软化水器:为防止反渗透膜表面结垢,需降低原水中的硬度,所以在反渗透系统前设软化器,使原水硬度降低(一般总硬度低于50mg/L)。
6、保安过滤器:采用5μmPP滤芯以除去原水中微细的悬浮物、泥沙、杂质等
7、高压泵:提供反渗透系统正常工作的动力源,为保持后序设备的正常运行,增加压力。
8、反渗透系统:采用高脱盐率的优质膜元件,单位膜面积的透水速度快、脱盐率高;机械强度好;化学稳定性好,能耐酸碱和微生物的侵袭;使用寿命长,性能衰减小。
9、中间水箱:设高、低水位控制,贮存预处理水,对系统的给水起调节作用。
10、EDI增压泵:为EDI设备提供所需压力。
11、EDI设备:深度除盐。
12、超纯水箱:储存超纯水。


      EDI是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底,又利用电渗析极化而发生水电离产生H和OH离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷,是20世纪80年代以来逐渐兴起的新技术。经过十几年的发展, EDI技术已经在北美及欧洲占据了相当部分的超纯水市场。 EDI装置属于精处理水系统,一般多与反渗透(RO)配合使用,,组成预处理、反渗透、 EDI装置的超纯水处理系统,,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。 EDI装置进水要求为电阻率为0.025-0.5MΩ·cm,反渗透装置完全可以满足要求。 EDI装置可生产电阻率高达18MΩ·cm以上的超纯水。


EDI超纯水设备优点
   A、无需酸碱再生,无化学药剂使用,无酸碱废水排放,生产过程无任何污染,属清洁生产;
   B、无需停机再生,连续生产水质稳定的高纯水;
   C、运行稳定可靠,降低运行和维修费用;
   D、无需派专门人员看守,易于实现设备自动化控制;
   E、设备占地面积小,减少车间建设面积,节约场地建设费用投资。
   F、控制系统可根据用户具体使用要求进行个性化设计,结合先进的控制软件,现场在线集中监控重要工艺操作参数,避免人工误操作,多方位确保系统长期稳定运行。


应用领域
A、制药行业、微电子行业、发电工业和实验室。
B、在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。
C、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
D、超纯材料和超纯化学试剂;
E、实验室和中试车间;
F、汽车、家电表面抛光处理;
G、光电产品;
H、其他高科技精微产品

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